Entegris新一代光罩盒通过ASML认证 可用于EUV技术生产制程上

时间:2018-08-23 15:35来源:TechNews科技新报作者:Jucy 点击:
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摘要:微电子产业特种化学品和材料解决方案厂商英特格 (Entegris) 宣布,新一代的光罩盒已获得半导体生产设备商艾司摩尔 (ASML) 的认证,可用于极紫外光 (EUV) 微影技术的芯片大量生产上,用以保护在制造过程中光罩的完整。 英特格表示,日前公司正式发布了下一代 EUV 1010 光罩盒,可用于以 EUV 微影技术进行大量生产的半导体制造上。英特格进一步指出,EUV 1010 光罩盒是透过

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微电子产业特种化学品和材料解决方案厂商英特格 (Entegris) 宣布,新一代的光罩盒已获得半导体生产设备商艾司摩尔 (ASML) 的认证,可用于极紫外光 (EUV) 微影技术的芯片大量生产上,用以保护在制造过程中光罩的完整。

英特格表示,日前公司正式发布了下一代 EUV 1010 光罩盒,可用于以 EUV 微影技术进行大量生产的半导体制造上。英特格进一步指出,EUV 1010 光罩盒是透过与全球最大芯片生产设备制造商之一的 ASML 密切合作而开发的,已率先成为全世界第一个获得 ASML 的认证,可用于 NXE:3400B 以及未来更先进机台上的光罩盒产品。

英特格还表示,随着半导体产业开始大量使用 EUV 微影技术进行先进技术节点的大量制造,保持 EUV 光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要高。因此,英特格的 EUV 1010光 罩盒已经通过 ASML 全面认证,可用于他们的最新一代 EUV 微影机,并展现对的 EUV 光罩保护能力,这其中还包括了解决最关键的粒子污染挑战。因此,英特格的 EUV 1010 光罩盒也因此让客户能够顺利地使用这最先进的微影制程,来制造出产品所需的越来越小线宽。

而为了在 ASML 的 NXE:3400B 微影机中实现这些性能水准,英特格开发出使用于接触光罩和控制环境上的新型技术。英特格晶圆和光罩处理副总裁 Paul Magoon 表示,EUV 1010 代表了英特格的产品在改进缺陷率方面的重大突破,使得为先进技术节点实施的客户,可以专注于提高效率和产量。而且,与 ASML 的共同开发和测试,也确保 EUV 1010 可符合最先进的 EUV 微影机的要求。

【光粒网综合报道】( 责任编辑:Jucy )
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