近日，部分媒体爆料：上海微电子已经攻克28nm核心光刻技术，并且已经通过技术检测和认证，今年下半年或明年就会与大家见面。
如果消息属实，那么国产芯片将迎来重大利好。
我们都知道芯片对一个国家的重要性，除了带动经济、促进就业、强大国防、保障信息安全外，它能够最大限度的改变世界未来格局。
一颗小小的芯片能够改变未来，甚至“一超四强”的国际格局都会被打破。可能有些网友认为这是在吹牛。但实际上，这真不是耸人听闻。
到了今天，5G、AI、云计算、大数据、自动驾驶、卫星通信、无人机等技术快速发展，对芯片的需求更加强劲，可以说没有芯片就没有这些技术。
如果这些技术成熟之后，试想一下。上千架无人机携带高爆弹药，在5G、卫星通信的助力下，快速敌方阵地，然后精准投掷。
后方、人工智能不分昼夜的制造无人机和弹药，源源不断地运送到战场上。而大数据和云计算在不停地分析数据，计算战场变化。
很多网友都想知道国产光刻机究竟做到了什么水平，但实际上知道的不敢说，说出来的不知道，因为这是国家机密。
这里，我们也只能“猜”，当然猜也是有根据的，并不是张口就来。
首先，国产光刻机正在全力攻关28nm技术，这是毫无疑问的。
28nm光刻机也就是DUV光刻机，采用了波长为193nm的深紫外光，能够制造28nm芯片，双重曝光后可以制造14nm芯片，但是良品率会下降。
至于部分媒体所说的4次曝光可以制造7nm芯片，这种技术恐怕ASML和台积电都做不到，更不要说上海微电子和中芯国际了，因此不要想着28nm光刻机能够造7nm芯片了。
193nm激光发射器
采用ArF准分子激光器作为光源，激光器发射出579nm的基频光，通过光学透镜聚焦，再穿过非线性晶体，就得到了289.5nm的倍频激光。最后用一束579nm基频光和289.5nm倍频光产生出193nm的三倍紫外激光。
这样，我们就得到了28nm光刻机的光源。当然具体上海微电子采用什么技术，我们并不了解，但大抵如此。
ArF准分子激光器制造难度很大，而且价格昂贵，重复频率提高很困难。
目前，国内的科益虹源已经攻克了这项技术，可以提供干式193nm、浸润式193nm的准分子激光器。激光器上的KBFF晶体由中科院旗下的福晶科技提供。
双工作台
高端光刻机都采用了双工作台，如此一来，一个工作台负责测量，另一个工作台可以曝光晶圆，完成后，两个工作台交换位置和智能，从而提高3倍以上的生产效率。
双工作台技术难度很高，精确度要求极高（高速运动下保持2nm精度），能够掌握该项技术的只有荷兰ASML。
